2026年02月21日
台中(台湾)
(ビジネスワイヤ) -- アジアを代表するODMであるキンコー・オプティカル(キンコー)は、べネックのC2R™プラズマ強化空間ALDシステムを導入することを発表しました。これにより、キンコーはパートナー企業向けに、回折導波管上に高屈折率で低損失のギャップフィリング光学コーティングの量産が可能になります。
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エクステンデッド リアリティ(XR)分野は、XRグラスなどのコンシューマーエレクトロニクスにおける没入型AR体験に対する需要に支えられ、急速な成長を遂げています。近年では、世界をリードするテクノロジー企業やOEM(相手先ブランド製造)による大規模投資とイノベーションが生まれています。XRグラスの中核となるのは、デジタル画像を現実世界にシームレスに重ね合わせるために不可欠なAR向け導波路です。この最適な性能を実現するため、先進表面レリーフ グレーティング(SRG+)とナノ インプリント リソグラフィー(NIL)技術が、コンシューマー向けアプリケーションの性能、生産、コスト要件を満たす主要なプラットフォームとなっています。
ただし、これらの技術によって形成される複雑な3Dナノ構造は、従来のコーティング方法では容易ではなく、多くの場合、必要となる性能を達成できでいません。そのため、効率、明るさ、耐久性を向上させつつ、スケーラブルで高性能な製造を実現するためには、高度な光学コーティング技術が不可欠となります。べネックのC2R™がこれらのニーズを満たし、妥協のない性能を提供することで、メーカーは次世代ARデバイスの厳しい基準を満たすことができるようになります。
キンコー・オプティカルのCTOであるアンガス・ウーは、「45年以上にわたる精密光学技術の実績を持つキンコーは、世界中の技術パートナー向けに高性能光学部品を提供するため、最先端技術の導入において業界をリードしてきました。当社は、ALDのコーティング品質、優れたコンフォーマルコーティング、そして先進の光学分野に不可欠な高屈折率・低損失材料を提供する能力に早くから着目していました。べネックのC2R™が提供する比類のない成膜速度と低温処理を組み合わせることで、複雑な構造でありながら精度を維持し、真の意味での量産と妥協のないパフォーマンスを実現します。これにより、AR向け導波路の商用化を加速し、没入感とシームレスなコンシューマー体験を提供する次世代XRグラスを実現できます」と述べています。
「べネックのC2R™により、妥協のないパフォーマンスを実現しています。これにより、AR導波路の商用化を加速し、次世代XRグラスを実現し、没入感とシームレスな消費者体験を提供できます」 - キンコー・オプティカルCTO、アンガス・ウー
C2R™は、革新的な回転式空間ALD設計を特徴としており、空間で前駆体を分離することで、従来のALDと比較して最大100倍の成膜速度(最大2000nm/h)を達成しつつ、優れた均一性と精度を維持します。Al₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅、HfO₂、多層膜スタックなど、幅広い高屈折率材料に対応し、最大約2.61(TiO₂、448nm)まで調整可能な屈折率と約3dB/cmの低損失を実現しています。
その他の主なメリットとしては、ポリマー基板との互換性を実現する低温処理(最低100℃)、複雑なグレーティングにおけるコンフォーマルなギャップ充填、1000MPaから-200MPaまで調整可能な応力制御機能によるゼロストレスコーティングなどが挙げられます。in-situでのブロードバンドモニタリングによりリアルタイムの最適化が実現し、品質を損なうことなくより厚い多層膜構造の製造が可能になります。これらの機能は、光学イノベーションにおけるエネルギー効率、持続可能な製造、そして規制遵守に向けた業界のトレンドと一致するものです。
今回の提携により、ARエコシステムはXRグラスだけでなく、車載ヘッドアップディスプレイや企業向けトレーニングツールなど、より幅広い用途に対応できるようになり、これらの製品の商品化と市場導入が加速します。
キンコーについて
1980年6月に台中市梧棲区で設立されたキンコーは、光学部品および光学レンズユニットの専門メーカーとして、ガラスレンズ研磨、プラスチックレンズ射出成形、ガラス成形プレス、精密金型加工の4つの生産部門を展開しています。キンコーによって製造される幅広い光学レンズは世界的なブランド認知度を獲得し、その製品は全世界で販売されています。これらの製品は、デジタル一眼レフカメラ、携帯電話、IoT(モノのインターネット)デバイス、自動車システム、ゲーム、監視カメラ、VR/AR/MR、サーモグラフィーカメラなどに使用されています。キンコーは、高品質で付加価値の高い光学レンズにフォーカスし開発を続けています。
ベネックについて
べネックは、1984年に最初の商用ALD装置を発表し、産業用原子層堆積(ALD)のパイオニアとなりました。べネックは現在、特殊半導体デバイス製造用のTransform®、Transform® 300、Prodigy™、研究開発用のTFS 200およびTFS 500、そして革新的な空間ALDプラットフォームを含むポートフォリオを通じて、ALD技術の導入と検証を推進しています。ベネックのシステムは、ラボからファブまでにわたるプロセスイノベーションをサポートし、先進的な製造分野へのALDの統合を可能にします。フィンランドのエスポーに本社を置くベネックはグローバルに事業を展開し、半導体、光学、機能性コーティングの未来を見据え、顧客のALDソリューションの量産化をサポートしています。
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