単結晶引き上げ炉の世界市場2025年、グローバル市場規模（シリコン炉、SiC炉）・分析レポートを発表
株式会社マーケットリサーチセンター
2025年7月4日
株式会社マーケットリサーチセンター
株式会社マーケットリサーチセンター（本社：東京都港区、世界の市場調査資料販売）では、「単結晶引き上げ炉の世界市場2025年」調査資料を発表しました。資料には、単結晶引き上げ炉のグローバル市場規模、動向、予測、関連企業の情報などが盛り込まれています。
■主な掲載内容
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単結晶引き上げ炉市場の概要と成長見通し
単結晶引き上げ炉は、シリコン単結晶を成長させるための主要な装置です。本装置は、グラファイト製の抵抗加熱器を用いて多結晶シリコンを加熱・溶融し、不活性ガス環境下でチョクラルスキー法によって転位欠陥のない単結晶を成長させる仕組みとなっています。
2023年時点における世界の単結晶引き上げ炉市場規模は198億1,000万米ドルと推定されており、2030年には3,023億米ドルにまで拡大すると予測されています。2023年から2030年の年平均成長率（CAGR）は6.2%と堅調な成長が見込まれています。
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半導体および太陽光発電分野での需要拡大
単結晶引き上げ炉は、半導体製造における重要な前工程装置として位置付けられ、特にシリコンウェハ製造に欠かせない存在です。半導体業界では2022年において製造装置の販売が過去最高となり、前工程装置やウェハ処理装置の売上が大きく貢献しています。これにより、単結晶引き上げ炉の需要も比例して拡大しています。
また、太陽光発電用途でも、シリコン単結晶の使用が主流となりつつあり、特に変換効率の向上を図る中で、高品質な単結晶の安定供給を可能にする育成炉の導入が進んでいます。
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地域別市場動向
アジア太平洋地域、特に中国が世界の単結晶引き上げ炉市場をリードしています。中国国内では旺盛な半導体・太陽光発電需要に加え、国家政策による技術自立の推進により、装置メーカーが積極的な投資を行っています。現時点で中国メーカーは12インチ対応の単結晶炉の製造に成功している一方で、14nm以下のプロセスに対応した高精度モデルにおいては、依然として欧州の先進企業が技術優位を保っており、中国ブランドの世界シェアは28～35％程度に留まっています。
北米および欧州でも政府による先端半導体支援策や研究開発投資の強化が背景にあり、一定の成長が継続しています。
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市場構造と製品分類
本市場は用途および製品の種類ごとに以下のように分類されています。
タイプ別：
● シリコン引き上げ炉
● 炭化ケイ素引き上げ炉
用途別：
● 半導体
● 太陽光発電
SiC炉は特にパワー半導体分野において注目されており、EV、5G、産業機器などの応用で今後の拡大が期待されています。一方、シリコン炉は依然として市場の中心であり、安定的な需要を保持しています。
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技術動向と産業チェーン
本レポートでは、単結晶引き上げ炉に関わる最先端技術や特許動向、ホットアプリケーション（需要が急増している用途）についても詳細に分析されています。
特に以下の技術分野に注目が集まっています：
● チョクラルスキー法の高効率化と自動化
● 高純度材料の使用と炉内環境の精密制御
● AIによる成長プロセスの最適化
● SiCやGaNなど次世代材料への対応
加えて、産業チェーンの上流には高純度シリコンや炭化ケイ素材料の供給業者、中流には育成装置の製造業者、下流にはウェハ・デバイス製造業者が位置し、それぞれの連携が市場全体の成長を支えています。
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競争環境と企業分析
本市場は技術力が問われるハイエンド機器であり、国際的には競争が激化しています。現状、欧州や日本の大手企業が最先端の14nm対応技術に強みを持ち、高付加価値市場をリードしています。一方で、中国企業も設備開発力を急速に高めており、中長期的には競争構造の変化が予想されます。
市場は比較的寡占化が進んでおり、主要メーカーによるシェア争いが続いています。これに伴い、製品の差別化、R&D投資、パートナーシップ戦略が各社の競争優位性に影響しています。
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市場予測と成長要因
今後の成長を支える要因として、以下が挙げられます：
● グローバルな半導体需要の高まり（5G、AI、EV等）
● 太陽光発電の普及と高変換効率化の進展
● 各国政府による製造装置分野への投資促進政策
● 高性能材料（SiC、GaNなど）の普及による新用途開拓
これらを背景に、単結晶引き上げ炉市場は今後も安定的かつ力強い成長が期待されます。
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単結晶引き上げ炉市場は、半導体や太陽光発電といった未来産業の発展に直結する装置分野であり、今後の技術革新と地政学的動向が市場構造に大きな影響を与えることが予測されます。特に国際的な技術主導権争いの中で、装置産業の重要性はますます高まっていくと見られます。
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目次
1.市場概要
1.1製品概要および単結晶引き上げ炉の用途範囲
1.2市場予測の前提条件と基準年
1.3タイプ別市場分析
1.3.1タイプ別世界消費額の概要（2019年・2023年・2030年）
1.3.2シリコン炉
1.3.3SiC炉
1.4用途別市場分析
1.4.1用途別世界消費額の概要（2019年・2023年・2030年）
1.4.2半導体
1.4.3太陽光発電
1.5世界市場規模と予測
1.5.1世界消費額（2019年・2023年・2030年）
1.5.2世界販売数量（2019年～2030年）
1.5.3世界平均販売価格（2019年～2030年）
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2.メーカー別プロファイル
（各社共通：企業情報、主要事業、単結晶引き上げ炉製品とサービス、販売数量・単価・収益・粗利・市場シェア、最新の開発・動向）
● ZhejiangJSG
● NAURA
● JiangsuHuashengTianlongPhotoelectric
● BeijingJingyuntong
● LINTONTechnologiesGroup
● WuxiAutowellTechnology
● TDGHolding
● S-tech
● PVATePlaAG
● ECMTechnologies
● QUANTUMDESIGN
● CarboliteGero
● Ferrotec
● NanjingAdvancedSemiconductorTechnology
● ZhejiangYunFengNewMaterialTechnology
● ESTech
● ShanghaiHanhong
● CrystalGrowthandEnergyEquipment
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3.メーカー別競争環境分析
3.1メーカー別世界販売数量（2019～2024年）
3.2メーカー別世界収益（2019～2024年）
3.3メーカー別平均価格（2019～2024年）
3.4市場シェア分析（2023年）
3.4.1メーカー別出荷額と市場シェア（2023年）
3.4.2上位3社の市場シェア
3.4.3上位6社の市場シェア
3.5市場における企業の全体的な展開分析
3.5.1地域別展開
3.5.2製品タイプ別展開
3.5.3用途別展開
3.6新規参入企業と市場参入障壁
3.7合併・買収・提携・協業の動向
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4.地域別消費分析
4.1地域別世界市場規模
4.1.1地域別販売数量（2019～2030年）
4.1.2地域別消費額（2019～2030年）
4.1.3地域別平均価格（2019～2030年）
4.2北米地域の消費額（2019～2030年）
4.3欧州地域の消費額（2019～2030年）
4.4アジア太平洋地域の消費額（2019～2030年）
4.5南米地域の消費額（2019～2030年）
4.6中東・アフリカ地域の消費額（2019～2030年）
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5.タイプ別市場セグメント
5.1タイプ別世界販売数量（2019～2030年）
5.2タイプ別世界消費額（2019～2030年）
5.3タイプ別世界平均価格（2019～2030年）
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6.用途別市場セグメント
6.1用途別世界販売数量（2019～2030年）
6.2用途別世界消費額（2019～2030年）
6.3用途別世界平均価格（2019～2030年）
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7.北米市場分析
7.1タイプ別販売数量（2019～2030年）
7.2用途別販売数量（2019～2030年）
7.3国別市場規模と予測
7.3.1米国
7.3.2カナダ
7.3.3メキシコ
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8.欧州市場分析
8.1タイプ別販売数量（2019～2030年）
8.2用途別販売数量（2019～2030年）
8.3国別市場規模と予測
8.3.1ドイツ
8.3.2フランス
8.3.3英国
8.3.4ロシア
8.3.5イタリア
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9.アジア太平洋市場分析
9.1タイプ別販売数量（2019～2030年）
9.2用途別販売数量（2019～2030年）
9.3地域別市場規模と予測
9.3.1中国
9.3.2日本
9.3.3韓国
9.3.4インド
9.3.5東南アジア
9.3.6オーストラリア
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10.南米市場分析
10.1タイプ別販売数量（2019～2030年）
10.2用途別販売数量（2019～2030年）
10.3国別市場規模と予測
10.3.1ブラジル
10.3.2アルゼンチン
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11.中東・アフリカ市場分析
11.1タイプ別販売数量（2019～2030年）
11.2用途別販売数量（2019～2030年）
11.3国別市場規模と予測
11.3.1トルコ
11.3.2エジプト
11.3.3サウジアラビア
11.3.4南アフリカ
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12.市場動向と分析
12.1市場の成長要因（ドライバー）
12.2市場の制約要因（抑制）
12.3トレンド分析
12.4ポーターのファイブフォース分析
12.4.1新規参入の脅威
12.4.2サプライヤーの交渉力
12.4.3買い手の交渉力
12.4.4代替品の脅威
12.4.5業界内競争の激しさ
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13.原材料と産業チェーン
13.1原材料と主要メーカー
13.2製造コスト構成比
13.3製造プロセスの概要
13.4産業バリューチェーン分析
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14.流通チャネル別出荷分析
14.1販売チャネル分類
14.1.1エンドユーザーへの直接販売
14.1.2販売代理店経由
14.2主な販売代理店
14.3主な顧客
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15.調査結果と結論
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16.付録
16.1調査手法
16.2調査プロセスとデータソース
16.3免責事項
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【単結晶引き上げ炉について】
単結晶引き上げ炉は、溶融状態の原料から高純度で構造の整った単結晶を育成するための装置です。この炉は、半導体や光学材料などの先端分野において必要不可欠な技術であり、特にシリコン単結晶の製造において広く使用されています。炉の内部では、原料を高温で溶かし、種結晶を接触させてゆっくりと引き上げることで、連続した結晶構造を持つインゴットを成長させます。
特徴としては、高温に耐える設計と精密な温度・速度制御機能を備えており、微細な結晶欠陥を抑えることができます。また、ガス雰囲気や真空環境を自在に制御することで、不純物の混入を防ぎ、高純度な単結晶を得ることが可能です。近年では、自動化技術やAIによる成長プロセスの最適化も進んでいます。
種類には、チョクラルスキー法（CZ法）、ブリッジマン法、フローティングゾーン法などがあります。チョクラルスキー法は最も一般的で、主にシリコンやガリウム砒素などに用いられます。ブリッジマン法は、るつぼ内の原料を上下方向に温度勾配のあるゾーンで冷却して結晶化する方法で、低コストな装置構成が特徴です。フローティングゾーン法はるつぼを使わずに原料棒を局所加熱して結晶を育成する方式で、極めて高純度な結晶が得られます。
用途としては、半導体基板、LED用のサファイア基板、レーザーや医療用光学部品、さらには研究開発向けの高性能材料の育成に用いられます。今後も電子機器や再生可能エネルギー分野の発展とともに、その需要は拡大していくと予想されます。
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記事提供：DreamNews
