オゾン化水生成装置の世界市場調査レポート:競合分析、予測2025-2031
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半導体製造におけるオゾンの力とは？-洗浄と除菌を両立する次世代プロセス技術
オゾンはその強力な酸化作用により、半導体業界においても多様な用途で活用されている。主な応用例としては、リンス水中の全有機炭素（TOC）の低減、ウェハー洗浄、SiO?の形成、さらには工程用水の除菌が挙げられる。
オゾンの殺菌能力は古くから飲料水の除菌に用いられてきたように、その酸化力によって細菌の膜透過性を破壊し、微生物を効果的に不活化する特性を持つ。半導体分野ではこの特性が、プロセス用水の除菌によって配管内のコンタミネーションを防止し、リンス水の清浄度を保つことでウェハー表面の欠陥を抑制する目的で導入されている。
オゾンは、次世代の超清浄製造環境を支えるキーテクノロジーのひとつとして、今後さらにその存在感を高めていくことが期待される。
オゾンの酸化力が生む、新たな水処理革命
オゾン化水生成装置は、その圧倒的な酸化力により、微生物や有機汚染物の除去に優れた効果を発揮する先進的な水処理技術である。半導体、医薬、食品、化学など高純度水を要求される業界では、次世代の洗浄・殺菌ソリューションとして急速に注目されている。従来の塩素系殺菌やUV殺菌と比べ、二次生成物が少なく、装置の省スペース化・省エネ化を図ることが可能である点も評価されている。オゾンは使用後に分解され酸素に戻るため、環境負荷が極めて低いという特性を持ち、サステナブルな水処理技術としても重要な立ち位置を占めている。
市場は機能性からソリューション提案型へ進化
近年、オゾン化水生成装置の市場は、単なる機能性重視の装置選定から、「装置＋工程最適化＋データ監視」までを統合したトータルソリューションへと進化している。特に半導体業界では、リンス工程や配管系内のバイオフィルム除去、ウェーハ洗浄における欠陥抑制など、多様な応用ニーズが顕在化しており、用途ごとの最適濃度・流量・温度制御の組み合わせが求められている。また、LP Informationが2025年に発表した調査によれば、アジア太平洋地域を中心に導入件数は着実に増加しており、特に韓国・台湾のファウンドリ各社が前向きな設備更新を進めている点が注目される。
脱炭素・水資源問題が成長の起爆剤に
オゾン化水生成装置の導入は、脱炭素・脱薬剤処理という環境課題への具体的なアプローチとして多くの業界で採用が広がっている。これまで水処理において不可避だった薬剤使用や熱処理によるエネルギー消費を抑えつつ、高精度な殺菌・洗浄性能を確保できる点が、持続可能な製造プロセスの鍵を握る。また、上水源が限られる地域や再利用水の品質確保が課題となる産業クラスターにおいても、オゾン化水は低負荷・高信頼の選択肢となっている。政府の環境規制強化やESG投資の拡大により、設備導入の後押しとなる公的支援制度の整備も進んでいる。
LP Information調査チームの最新レポートである「グローバルオゾン化水生成装置市場の成長2025-2031」（
https://www.lpinformation.jp/reports/263471/ozonized-water-generator）によると、2025年から2031年の予測期間中のCAGRが5.0%で、2031年までにグローバルオゾン化水生成装置市場規模は1億米ドルに達すると予測されている。
図. オゾン化水生成装置世界総市場規模
図. 世界のオゾン化水生成装置市場におけるトップ10企業のランキングと市場シェア（2024年の調査データに基づく；最新のデータは、当社の最新調査データに基づいている）
LP Informationのトップ企業研究センターによると、オゾン化水生成装置の世界的な主要製造業者には、Suzhou Jingtuo Semiconductor Technology、Sumitomo Precision Products、Ebaraなどが含まれている。2024年、世界のトップ3企業は売上の観点から約60.0%の市場シェアを持っていた。
「洗浄の質」で勝負する時代に、選ばれる技術とは何か
企業がオゾン化水生成装置を導入する際の判断基準は、「洗浄力」や「滅菌効果」といった性能面にとどまらず、「工程への適応性」「既存ラインへの実装性」「運転コスト」「IoT連携によるリアルタイム監視」など、総合的な価値提案にシフトしている。この流れの中で、独自の流体制御技術やオゾン生成効率を高めるコア部品を持つメーカーへの評価が高まっており、単なる製品提供ではなく、使用条件ごとに最適な設計・保守・改善提案までを提供できる技術者集団が市場で競争優位を築きつつある。
次代の半導体・製薬ラインを支える中核装置へ
微粒子管理と微生物管理の高度化が進む先端産業において、オゾン化水の活用範囲は今後さらに拡大する見通しである。たとえば、次世代半導体製造ではナノレベルの表面欠陥制御が求められ、薬液を使わないドライ・ウェットハイブリッド洗浄工程の鍵として、オゾン水の制御技術が中核となる。また、製薬業界では無菌製造区域の清掃工程やCIP（定置洗浄）への適用が進んでおり、規制対応と省人化の両立を図る装置として位置付けられている。こうした多様化するニーズに応えられる企業は、製品設計に加え、現場での工程データの蓄積・解析といった“運用の知”を武器にしながら成長を続けることが期待される。
環境調和型スマート工場のキーテクノロジーに
カーボンニュートラル、ZLD（ゼロ・リキッド・ディスチャージ）、省薬剤化といったトレンドの中で、オゾン化水生成装置はスマート工場の重要な構成要素となりつつある。単なる殺菌装置にとどまらず、中央監視システムと連携し、流量やオゾン濃度の自動最適化を行うことで、品質とエネルギー効率の両立を実現する。とりわけ製造業においては、工程データを活用した自律制御型の水処理技術が求められ、環境対応・リスクマネジメントの観点でも注目が高まっている。この分野で成長を続ける企業は、制御・センサー・水処理の各技術を融合しながら、「スマート×クリーン」の世界標準をリードしていくポテンシャルを秘めている。
レポート概要
タイプ別セグメント：
Low Concentration （Below 30ppm）
Medium Concentration （30-60ppm）
High Concentration （Above 60ppm）
用途別セグメント：
Semiconductor
FPD （Flat Panel Display）
Others
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