フォトマスク関連技術の国際会議「SPIE Photomask Technology」に参加
株式会社ニューフレアテクノロジー
2025年9月26日
株式会社ニューフレアテクノロジー
ニューフレアテクノロジー(NFT)は、2025年9月22日から25日まで米国カリフォルニア州モントレー市で開催された「SPIE Photomask Technology」に参加しました。
本学会は、 光学やフォトニクスの分野における国際学会であるSPIE(The International Society for Optical Engineering, 国際光工学会)が毎年開催しているもので、フォトマスクとパターニング、計測器、測定、材料、検査、修理、マスクビジネス、High-NA EUVリソグラフィーなどに関する国際的技術会議です。
NFTは、本会議には毎年参加しており、今年もマルチ電子ビームマスク描画装置に関する最新の開発状況について１件の口頭発表、１件のポスター発表を行っています。
< SPIE Photomask TechnologyでのNFTの口頭発表／ポスター発表>
Session
Paper 13687-1
MBM-4000 multi-beam mask writer enabling mask fabrication for a new era
Author(s): Kenichi Yasui, Jumpei Yasuda, Haruyuki Nomura, Hiroshi Matsumoto, Tomoo Motosugi, Hayato Kimura, Yoshinori Kojima, NuFlare Technology, Inc. (Japan)
Presenter
Kenichi Yasui, NuFlare Technology, Inc. (Japan)
Poster Session Paper 13687-113
Electron multibeam mask writer for mature nodes: MBM-2000C
Author(s): Issei Aibara, Masashi Uchiya, Takuma Abe, Hiroshi Matsumoto, Yoshinori Kojima, Masato Saito, NuFlare Technology, Inc. (Japan)
Presenter：Issei Aibara, NuFlare Technology, Inc. (Japan)
関連リンク：
Photomask Technology 2025, Conference Details
以上
プレスリリース提供：PR TIMES
記事提供：PRTimes
