2月25日(水)「リソグラフィ技術の基礎およびEUVリソグラフィ・レジスト周辺技術と展望」Zoomセミナーを開講予定
AndTech
【東京大学 大学院新領域創成科学研究科：藤原 弘和 氏】に、ご講演をいただきます。
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株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）はR&D開発支援の一環として、「リソグラフィ技術」と「レジスト材料開発」について解説します。
リソグラフィを学びたい方、レジスト材料開発に携わる方に向けた講座です！
本講演では、微細加工技術の基礎から始まり、フォトリソグラフィ技術の原理や特長、さらに最新のEUVリソグラフィ技術について、光と物質の相互作用に基づいて詳しく解説します。
※当日にご参加できない方は録画視聴が可能です
Live配信・WEBセミナー講習会 概要
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テーマ：リソグラフィ技術の基礎およびEUVリソグラフィ・レジスト周辺技術と展望
開催日時：2026年02月25日(水) 13:00-17:00
録画視聴：対象（2/25～3/11）
参加費：45,100円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
URL：
https://andtech.co.jp/seminars/1f0f03b7-6a1f-6416-a9f3-064fb9a95405
WEB配信形式：
WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
セミナー講習会内容構成
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東京大学 大学院新領域創成科学研究科：藤原 弘和 氏
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
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１.リソグラフィの物理・評価技術
２.レジストの感光原理
３.半導体デバイス技術
下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
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【講演のポイント】
物性物理学を専門とし半導体メーカーでのデバイス開発経験を持つ講演者が、EUVリソグラフィ技術の原理や課題を物理学に基づき解説します。物質と光の相互作用を講演の基軸に置き、EUVリソグラフィの利点や課題を基礎から理解することを助けます。
【プログラム】
1. 微細加工技術
1.1 微細加工の基礎
1.2 微細加工パターンの評価手法
1.2.1 光学顕微鏡
1.2.2 電子顕微鏡
1.2.3 プローブ顕微鏡
2. フォトリソグラフィの基礎
2.1 フォトリソグラフィ技術の原理
2.2 フォトリソグラフィの特長
2.3 フォトリソグラフィの歴史
2.4 フォトリソグラフィ技術の材料
3. EUVリソグラフィ技術の基礎
3.1 EUVリソグラフィ装置
3.2 EUV露光の物理
3.3 EUVレジスト
3.3.1 化学増幅型レジスト
3.3.2 非化学増幅型レジスト
3.3.3 メタルレジスト
3.3.4 その他のレジスト
3.4 レジスト周辺材料
3.5 EUVフォトマスク
3.5.1 EUVマスクブランクス
3.5.2 EUVペリクル
4. EUVリソグラフィ技術の応用事例
4.1 GAAトランジスタ
5．フォトリソグラフィ技術の課題と展望
【質疑応答】
株式会社AndTechについて
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化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
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本件に関するお問い合わせ
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株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
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＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
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