日本ゼオン、シクロオレフィンポリマーの原料生産能力増強によりC5事業の競争力強化
日本ゼオン株式会社
水島工場GPI設備に追加投資
日本ゼオン株式会社（本社：東京都千代田区、代表取締役社長兼CEO：豊嶋 哲也 以下、ゼオン）は、水島工場（岡山県倉敷市、工場長：森 靖雅）においてGPI*1 プラントに新たな設備を追加し、能力増強を図る投資を決定しました。これにより、ゼオンのC5事業の主軸で成長ドライバにも位置付けるシクロオレフィンポリマー（以下、COP）およびCOP製光学フィルムなどの主原料となるジシクロペンタジエン（以下、DCPD）の生産能力が現行比で最大2割程度向上します。本投資により、汎用品向け主原料であるピペリレンなどの生産量を増やすことなく、DCPDの安定確保が可能となります。さらに、これまで未利用であった成分を有効活用することで、CO2排出量の削減にも寄与します。工事は、2026年度下期に着工し、2028年9月完工を目指します。
ゼオン水島工場は、GPI法を活用したC5留分総合利用工場として1969年に操業を開始したゼオンの基幹工場です。GPI法により生み出されるイソプレン、DCPD、ピペリレン、2-ブチンといった有効成分を合成ゴムやCOP、石油樹脂、合成香料などの様々な製品へと展開しています。
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水島工場GPIプラント外観
DCPDは、COPのほかRIM配合液などの高収益製品の原料として使用されており、特にCOPおよびCOP製光学フィルムは、中期経営計画STAGE30において、着実に拡大を見込む成長ドライバに設定され、今後の需要拡大が見込まれています。*2 こうした拡大基調に対する原料調達について様々な検討を重ねてきた結果、これまで未利用であった成分を活用する技術の確立により、C5留分を追加調達することなく、安定的な原料確保が可能となりました。
また、今回の方法は、C5留分からの抽出に比べ、CO2排出削減効果が見込まれ、カーボンニュートラルにも寄与します。
ゼオンは、STAGE30において、「選択と集中」によるポートフォリオの組み換えを推進しており、今回の投資によりC5事業のさらなる拡大に加え、競争力強化を図ります。ゼオンは今後も市場ニーズを捉え社会の期待に応えるとともに、人々の快適なくらしに貢献してまいります。
＊1：ゼオン・プロセス・オブ・イソプレン法の略。ナフサに含まれるC5留分から抽出蒸留によって高純度の有効成分を取り出すゼオン独自の技術。
＊2：需要拡大に対応すべく、COPに加え、COP製光学フィルムの能力増強工事にも着手。
日本ゼオン、シクロオレフィンポリマーの新プラント建設工事の起工式を挙行 ２０２８年度上期の竣工目指す
日本ゼオン、氷見二上工場で位相差フィルム製造ライン増設工事の起工式を挙行プレスリリース提供：PR TIMES
記事提供：PRTimes
