インテグリス、JSR／Inpria と極端紫外線リソグラフィの非独占的クロスライセンス契約を発表
Entegris, Inc.
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半導体業界向け先端材料および高純度ソリューションのグローバルリーダーである米インテグリス（本社：米国マサチューセッツ州、日本法人：東京都港区、以下インテグリス）と、材料イノベーションのリーダーであり、Inpria Corporation（以下、Inpria）の親会社であるJSR株式会社（本社：東京都港区、以下JSR）は本日、半導体業界における次世代チップ製造に向けた極端紫外線（EUV）リソグラフィ技術の進展を支援することを目的とした、非独占的クロスライセンス契約を締結したことを発表しました。
インテグリスのシニア・バイス・プレジデント（SVP）兼最高戦略・イノベーション責任者（Chief Strategy & Innovation Officer）であるオリヴィエ・ブラシエ（Olivier Blachier）は、次のように述べています。「業界がより微細なノードへと移行するにつれ、材料のイノベーション、性能、純度、そして信頼性は不可分なものとなっています。本クロスライセンス契約は、半導体分野におけるイノベーションがエコシステム全体でますます進展していることを示すものであり、お客様が確信を持って次世代リソグラフィ技術を導入できるよう支援するものです」
本契約に基づき、インテグリスおよびInpriaは、メタルオキサイドレジスト（MOR）に関する特許のクロスライセンスを行い、係争中の当事者系レビュー（Inter Partes Review: IPR2025-00267）を終了させるとともに、将来のフォトレジスト材料における協業の可能性について検討を進めます。本協業は、レジスト設計、プリカーサー合成および開発が想定され、さらには極端紫外線リソグラフィ用途の大量生産において、新材料が安定した性能を発揮するために不可欠な、MOR向け高純度ろ過技術および関連する供給システムまでを網羅する可能性があります。
JSRとInpriaが持つメタルオキサイドレジスト材料における総合的なリーダーシップと、インテグリスのCVDデポジッション向けMORプリカーサー、材料ハンドリング、およびMOR向け高純度ろ過技術に関する専門知識を組み合わせることにより、本協業は、両社がAI時代に向けた先進技術を拡張していく中で、半導体製造における先端材料の適用拡大を図ります。
JSR上席執行役員である木村徹氏は、次のように述べています。「Inpriaのメタルオキサイドレジストに関する革新的な技術と、インテグリスの精製および材料ハンドリングのノウハウを掛け合わせることで、半導体材料のエコシステムにおけるこれらの技術の適用範囲が拡大します」
インテグリスについて
インテグリスは、半導体およびその他のハイテク産業向けに先端材料およびプロセスソリューションを提供するリーディングサプライヤーです。インテグリスは世界で約7,700名の従業員を擁し、ISO 9001認証を取得しています。米国、カナダ、中国、ドイツ、イスラエル、日本、マレーシア、シンガポール、韓国、台湾に製造拠点、カスタマーサービス、または研究施設を有しています。詳細は、
http://www.entegris.comをご覧ください。
JSR株式会社について
JSR株式会社は、最先端材料を開発するグローバルなテクノロジー企業です。同社の電子材料事業は、フォトレジストおよび周辺材料、プロセス材料、パッケージング材料、プリカーサーなど、最先端のロジックおよびメモリ向けの幅広い半導体材料を提供しています。JSRのグループ企業には、2021年に買収した極端紫外線（EUV）用メタルオキサイドレジストの研究開発、製造及び販売を行うInpria Corporation、および2024年8月に加わった高純度CVD/ALD用プリカーサーの研究開発、製造及び販売を行うヤマナカヒューテック株式会社が含まれます。詳細は、www.jsr.co.jp をご覧ください。
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プレスリリース提供：PR TIMES
記事提供：PRTimes
