テクセンドフォトマスク、ナノインプリント技術研究会主催「NNT2026」に出展・講演

テクセンドフォトマスク株式会社

テクセンドフォトマスク、ナノインプリント技術研究会

次世代デバイスを支える、最新のナノインプリント用マスターモールド製造技術をご紹介

テクセンドフォトマスク株式会社（本社：東京都港区、代表取締役社長執行役員 CEO：二ノ宮照雄、以下テクセンドフォトマスク）は、公益社団法人応用物理学会ナノインプリント技術研究会主催の国際会議「NNT2026」に出展・講演をいたします。
同会議は2026年10月13日（火）から16日（金）までの4日間、宮城県仙台市の仙台サンプラザで開催されます。ナノインプリント・ナノプリント技術に関する研究成果や、最新技術を発表、共有する場として開催され、大学・研究機関、企業などが参加します。プロセス、材料、装置に加え、エレクトロニクス、光学、バイオテクノロジー、エネルギーなどの分野における応用まで、幅広いテーマが取り上げられます。
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テクセンドフォトマスクは、同会議にて、ブース出展及び講演をいたします。出展ブースでは、最先端の電子線リソグラフィと革新的なエッチング技術によって実現するナノインプリント用マスターモールドとナノインプリント試作・開発サービスをご紹介いたします。
また講演では、AR/VR用光学部品においてデバイスの性能に不可欠な、ナノスケールの微細構造の形成に活用されているナノインプリントリソグラフィ（NIL）について、その基盤となるマスターモールドの製造技術をご紹介します。複雑なパターン形状やプロファイルをマスターモールドに直接形成するテクセンドフォトマスクの技術と、それによるナノインプリントリソグラフィプロセスの簡素化について解説します。

■ イベント開催概要
日程：2026年10月13日（火）から16日（金）
場所：仙台サンプラザ (宮城県仙台市宮城野区榴岡5-11-1)
　　　公式サイト: https://nanoimprint.jp/nnt2026/
　　　※詳細につきましては、イベント公式サイトをご確認ください。

■ 出展情報
出展期間: 2026年10月14日(水)、15日(木)
ブース番号: 6

■ 講演情報
日時: 2026年10月15日(木) 12時5分から
テーマ: NIL Mastering: Enabling the Next Generation of Nano Manufacturing
<講演者>
氏名: Brid Connolly
テクセンドフォトマスクマーケティングマネージャー。製品開発や戦略的アライアンスを通じて、フォトマスクおよびリソグラフィの用途拡大を担当。フォトマスク業界において、プロセスエンジニアリング、技術サポート、営業、テクニカルマーケティング、事業開発、ナノインプリントリソグラフィ向け製品開発など、幅広い経験を有する。ダブリンシティ大学で応用物理学の学位を取得。
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■　テクセンドフォトマスク株式会社について
テクセンドフォトマスク株式会社は、半導体製造工程に不可欠なフォトマスクを製造・販売する企業で
す。北米・欧州・アジア・日本に9つの製造拠点を展開し、グローバルネットワークを活かした安定供
給体制を構築しています。最先端の技術開発力を強みに、外販フォトマスク市場においてグローバ
ルシェアNo.1を有し、半導体産業の発展に貢献しています。
また、フォトマスク事業で培った技術を基盤に、ナノインプリントモールドをはじめとする微細加工分
野へ事業領域を拡大しています。

公式ウェブサイト：https://www.photomask.com/
＊本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。

プレスリリース提供：PR TIMES

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