三菱化工機、原薬・電子材料用のベンチスケール固液分離機3製品「MiD-CURUPO(TM)」、「DyF-ap(TM)」、「HZ250PhII」を新たにラインアップ
三菱化工機
5月20日から開催「第28回インターフェックスジャパン - 医薬品 化粧品 製造展 -」で展示
三菱化工機株式会社（代表者：田中 利一、所在地：川崎市、以下「当社」）は、原薬・電子材料の製造プロセスに対応するベンチスケールの固液分離機として、連続回転ろ過機「MiD-CURUPO(TM)（ミッド・クルポ）」、回転式セラミック膜ろ過機三菱ダイナフィルタ「DyF-ap(TM)（ディーワイエフ・エーピー）」、GMP対応横型ピーラー遠心分離機「HZ250PhII（エイチゼット250ピーエイチツー）」の3製品を新たにラインアップしました。
これら3製品は、2026年5月20日(水)～22日(金)まで幕張メッセで開催される「第28回インターフェックスジャパン - 医薬品 化粧品 製造展 -」（主催：RX Japan合同会社）にて、実機・模型の展示を行います。
[画像1:
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「MiD-CURUPO(TM)」は、連続回転ろ過機「mini-CURUPO」をベースに、原薬・電子材料用途向けに機内洗浄性と操作性を向上させたモデルです。
上部からスラリー※1を供給するトップチャージ方式を採用しており、ろ過を行った後、ろ過室を180度反転させてケーキ※2を排出します。小型ながら密閉性に優れたケーシング内でろ過からケーキ排出までの工程を切れ目なく、自動で行います。
さらに、液残りの少ないケーシング構造や機内の洗浄機能により、装置内部の洗浄性及び視認性が向上しています。原薬・電子材料の製造プロセスへの適用を想定した設計となっています。
特長
- 製造プロセスを考慮した洗浄機能を加え、機内の洗浄性を向上 - 液残りの少ないケーシング構造により、機内残留物を最小化 - ろ液管とブロー管を分離し、異物混入のリスクを低減 - キャスター付き可搬式ユニットへの搭載が可能- 連続生産設備iFactory(R) ※3での使用が可能
主な仕様
[表1:
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主な用途
[表2:
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[画像2:
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「DyF-ap(TM)」は、精密ろ過、限外ろ過、ナノろ過が可能な回転式セラミック膜ろ過機「三菱ダイナフィルタ（DyF(R)）」をベースに、原薬・電子材料用途向けに機内洗浄性を向上させたモデルです。微細粒子（μm～nm）スラリーのろ過・洗浄・濃縮・溶媒置換を密閉下で行う機能性に加え、スラリーの排出性やろ室の構造を改良したことで、機内の残留物を最小化。原薬・電子材料の製造プロセスへの適用を想定した設計となっています。
特長
・ナノレベルの粒子を含むスラリーにも対応可能
・スラリーの排出性を改善し、液だまりの少ない構造で、機内残留物を最小化
・メカニカルシールを採用し、異物混入のリスクを低減
・連続生産設備iFactory(R)での使用が可能
主な仕様
[表3:
https://prtimes.jp/data/corp/116512/table/74_3_4cfd34f59146bccc99c0304862377474.jpg?v=202605190415 ]
「MiD-CURUPO(TM)」「DyF-ap(TM)」は、モジュール型医薬品連続生産設備iFactory(R)のプロセス機器として適用できます。iFactory(R)の構成機器と組み合わせることで、晶析～充填まで連続化した効率的なプロセスを構築可能です。
*iFactory(R)は、株式会社iFactoryの登録商標です。「CURUPO(R)」「DyF(R)」は三菱化工機株式会社の登録商標です。
「HZ-250PhII」は、医薬・ファインケミカル・食品用途に多数の実績をもつGMP対応横型ピーラー遠心分離機「HZ-PhIIシリーズ」に新たに加わったベンチスケール機です。これまで本シリーズ最小だった内径400mmの型番に加え、新たに内径250mmのよりコンパクトな小型機をラインアップしました。小型ながら「HZ-PhIIシリーズ」と同じ操作性を発揮し、GMP対応が求められる製品にも適用可能です。
今後も当社の固液分離技術を活かし、顧客のニーズに対応する装置の開発、新規用途開拓、販売拡大を積極的に進めてまいります。
※1 液体中に固体粒子が分散した混合物
※2 固液分離によって、スラリーから分離・回収された固形物
※3 iFactory(R)は、反応や分離などの製造工程を個別にモジュール化し、相互に連結させることで機能性化学品製造プロセスの連続化に対応する生産設備です。これまでのバッチ型製造プロセスと比較して、効率的かつ必要な製品を必要な量だけ生産できる点が特長です。
■本リリースの取り組みを通じて、当社はSDGs（持続可能な開発目標）における次の目標に貢献します。
・目標7 エネルギーをみんなに そしてクリーンに
・目標9 産業と技術革新の基盤をつくろう
[画像3:
https://prcdn.freetls.fastly.net/release_image/116512/74/116512-74-e06853243a5173439b82acbb9495d8ba-351x173.jpg?width=536&quality=85%2C75&format=jpeg&auto=webp&fit=bounds&bg-color=fff ]
プレスリリース提供：PR TIMES
記事提供：PRTimes
