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ギガフォトン、ネオンガスレスキュープログラムを開始

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2015年07月09日

ネオンガス供給危機に対応する3つのプログラムで産業界に貢献

栃木県小山市

（ビジネスワイヤ） -- リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 都丸仁）は、現在実施中の、2014年11月に発表した同社のArF液浸レーザー「GTシリーズ」向けガス消費量削減技術「eTGM」の期限付き無償提供(*1)に引き続き、この度、同社の全レーザー機種に対応したネオンガス消費削減のための包括パッケージ、「ネオンガスレスキュープログラム」を開始したと発表しました。

現在、半導体製造プロセスで使用するArF、KrFレーザーに用いられるレーザーガスの、バッファガスであるネオンは、主な産出国であるウクライナの政情不安が未だ続いていることもあり、近年から問題となっている供給減少が依然として大きな懸念事項となっています。その懸念は価格上昇のみならず、2015年中に市場でも不足が起こるのではないかというところまで広がっています。(*2)これは世界のネオンガスの主要な消費者である半導体産業にとって安定生産を損なう危機的状況といえます。

この事態をうけ、ギガフォトンでは、顧客の安定した大量生産をサポートするため、ネオンガス供給危機に対応する包括パッケージ「ネオンガスレスキュープログラム」の提供を開始することを決定しました。このパッケージでは次の3つのプログラムを提供いたします。

1つ目は顧客が指定した新規ガス供給メーカーの、当社での採用評価を短期間で実施するプログラムです。従来、新規メーカー供給のガスの採用評価には6ヶ月～1年の期間を要しますが、本プログラムでは1ヶ月で新規ガス供給メーカーのレーザーガスを使用することが可能になります。

2つ目は「eTGM」をKrFレーザー「G41Kシリーズ」およびArFレーザー「GT40Aシリーズ」にも適用し、2015年11月から期限付き無償提供する(*1)プログラムです。eTGM導入によりKrFレーザーおよびArFレーザーで最大25%、ArF液浸レーザーで最大50%のネオンガス削減が可能になります。

3つ目は全レーザー機種に対応する最新ガスリサイクルシステム、「hTGM」の提供プログラムです。これは2016年より順次開始する予定です。この「hTGM」を用いることで、ガス消費量は最大50%までリサイクルすることが可能になります。

これら3つを合わせた包括的パッケージ、「ネオンガスレスキュープログラム」の提供によりギガフォトンはネオンガス供給サポートならびに消費量の低減を実現し、ネオンガス供給危機を危惧する半導体産業界に対して、安定生産のサポートをいたします。

ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの都丸仁氏は、こう述べています。「ネオンガスは半導体製造において欠かせないガスであるため、今回のように長引く供給危機は生産継続をおびやかす非常に重大な問題ととらえています。ギガフォトンは、新規ガスベンダーの早期適用、ガス使用量の大幅削減、ガスリサイクル技術の早期導入の３本柱でお客様の安定生産を全力で支えて参ります。」

(*1)無償提供はネオンガス供給への懸念が払しょくされるまでの間とし、終了はギガフォトンが決定するものとします。ニュースリリースに記載されている情報は発表時のものであり、予告なしに変更される場合があります。(*2)当社調査による。

eTGMに関する過去のニュースリリース

ギガフォトンについて

2000年に設立されて以来、ギガフォトンはアジア全体、米国およびヨーロッパ地域の主要半導体メーカーのための、ユーザーフレンドリーで高性能なDUVレーザー光源を開発・供給してきました。ギガフォトンは、生産性と費用対効果が重要な大量生産(HVM)において必要とされる、優れたリソグラフィ光源を供給する世界No.1企業になるよう努力しています。常にエンドユーザのニーズに焦点をあて、研究開発から製造まですべての局面において、業界最高の信頼性と世界水準の顧客サポートを目指しています。詳細については、www.gigaphoton.comをご覧ください。

businesswire.comでソースバージョンを見る：http://www.businesswire.com/news/home/20150708005005/ja/

連絡先

報道関係者向けの連絡窓口：　
ギガフォトン株式会社
松井　章記
経営企画部
TEL: 0285-37-6931
Eメール: web_info@gigaphoton.com

記事提供：ビジネスワイヤ