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ギガフォトン、EUV光源で出力140W、デューティーサイクル50%連続運転に成功

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2015年02月18日

EUVリソグラフィ装置用のLPP光源として量産レベルを達成　EUVの実用化に貢献

栃木県小山市

（ビジネスワイヤ） -- リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社は、現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP）光源のプロトタイプ機において、半導体量産対応レベルの出力140W、デューティーサイクル50%にて連続運転を達成したと本日発表しました。

この成果は、これまでギガフォトンが開発を続けてきた、20μm以下の微小ドロップレットの供給技術、固体レーザーによるプリパルスとCO2レーザーによるメインパルスの組み合わせ、磁場を使ったデブリ除去技術を、より進化させたことによって達成されました。ギガフォトンが達成した140W、デューティーサイクル50%連続運転というこの数値は、量産対応EUVスキャナーの実現が最終段階にさしかかったことを意味しています。今後ギガフォトンでは、プロトタイプLPP光源で2015年末までに、メモリー等への量産対応目安である250Wレベルの達成を目指して更なる研究開発に取り組んでいきます。

ギガフォトン代表取締役社長兼CEOである都丸仁氏は、次のようにコメントしています。「出力140W、デューティーサイクル50%での連続運転に成功したことは、半導体量産工場が待望する高出力、低ランニングコストで安定稼働が可能なLPP光源の完成が間近であること示しています。ギガフォトンの高度な技術力と量産に向けた開発努力が、量産用EUVリソグラフィスキャナーの開発を加速させ、次世代露光技術としてのEUVスキャナーの導入時期を一層早めると確信しております。」

本件を含むギガフォトンの最新のEUV光源開発状況については、2月22日から26日まで米国San Joseで開催されるEUVリソグラフィに関する国際シンポジウム（SPIE Advanced Lithography）で発表予定です。

*本件は、独立行政法人「新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）」の助成プログラムの成果を活用しています。

ギガフォトンについて

2000年に設立されて以来、ギガフォトンはアジア全体、米国およびヨーロッパ地域の主要半導体メーカーによって使用されるユーザーフレンドリーな、高性能DUVレーザー光源を開発、供給してきました。

ギガフォトンの、特許を取得した革新的技術であるLPP EUVソリューションは、費用対効果と生産性に優れた量産向けEUVスキャナーの実現に向けて先導的役割を果たしています。グローバルなビジネス展望を持って、ギガフォトンは、研究開発から製造までのあらゆる事業分野においてエンドユーザーのニーズに焦点をあて、業界最高の信頼性と世界水準の顧客サポートでリソグラフィ光源を供給する世界No. 1企業を目指します。詳細は、http://www.gigaphoton.comをご覧ください。

連絡先

報道関係者向けの連絡窓口
ギガフォトン株式会社
寺嶋克知
経営企画部
TEL： 0285-37-6931
Eメール： web_info@gigaphoton.com

記事提供：ビジネスワイヤ